JEOL Analytical Services – Analysedienstleistungen auf höchstem Niveau
JEOL JIB-4610F

JEOL JIB-4610F

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JEOL JIB-4610F

Das JIB-4610F Focused Ion Beam System ist ein modernes, hochauflösendes, digitales Mehrstrahl Focused-Ion-Beam System mit neuentwickelter Ionenoptik, hochauflösender Elektronenoptik und intuitiver, graphischer Benutzeroberfläche (GUI).

Mit der JIB-4610F können Dünnschichtschnitte für STEM/TEM- sowie Probenquerschnitte für REM-Untersuchungen aus den unterschiedlichsten Materialien hergestellt werden, die sonst nur schwierig oder unmöglich zu präparieren wären. Abbildung und Materialabtrag können durch die hochauflösende Ionensäule erfolgen, gleichzeitig kann durch die hochauflösende Elektronensäule die Abbildung der Probenoberfläche erfolgen.

Die Kombination von FIB-Quelle und Elektronensäule in einem System erlaubt dabei auch die Anwendung moderner Techniken wie FIB-Tomographie und 3D-EBSD.

Merkmale

  1. Hochpräzisionsbearbeitung und hochauflösende Abbildungen durch eine FIB-Säule und eine hochauflösendes mit einer Schottky-Elektronenkathode ausgestattetes REM
    Die Betrachtung von Probenquerschnitten mit hochauflösendem REM (Auflösung von 1,2 nm bei 30 kV und 3,0 nm bei 1 kV) kann nach der FIB-Anwendung zur Hochpräzisionsbearbeitung der Probenquerschnitte erfolgen. Die Herstellung genauerer Dünnschichtproben für Transmissionselektronenmikroskope (TEM) ist möglich.

  2. Hochgeschwindigkeitsbearbeitung großer Flächen durch die FIB-Säule mit maximalem Ionenstrom von 90 nA
    Die Verwendung einer neu entwickelten FIB-Säule mit einem hohen Ionenstrom (max. 90 nA) ermöglicht eine noch schnellere Bearbeitung, was insbesondere für den großflächigen Abtrag sehr geeignet ist.

  3. Hochgeschwindigkeits- und hochauflösende Analyse wie z. B. EDS, EBSD, CLD (Option) möglich durch eine Elektronenkathode mit einem max. Sondenstrom von 200 nA
    Die REM-Säule mit einem maximalen Sondenstrom von 200 nA ermöglicht eine schnelle und hochauflösende Analyse. REM-Abbildungen und Analysen können nach der Proben-Bearbeitung mit FIB erstellt werden, ohne die Bühne zu bewegen.

  4. 3D-Abbildungen, 3D-Analyse
    Die Verbindung verschiedener Analyseeinheiten (optional) mit der Hochgeschwindigkeits- und hochauflösenden FIB-Säule mit einem hohen Ionenstrom sowie der hochauflösenden mit einer Schottky-Elektronenkathode ausgestatteten REM ermöglicht:

    • automatische unterbrechungsfreie Bearbeitung und Erzeugung von
      REM-Abbildungen mit Cut & See,
    • automatische unterbrechungsfreie Datenerfassung für EDS- und EBSD-Abbildungen

    Durch Stapelung der sequenziellen Abbildungen können 3D-Abbildungen und Analysen erstellt werden. Darüber hinaus können die Daten für alle Analysetypen ohne Neigung, Drehung oder Verschiebung der Bühne erfasst werden.

  5. Cooling Stage und Kryo-Einheit (Option) installierbar
    Durch den Einsatz einer Cooling Stage können Hitzeschäden durch die Ionenstrahlbearbeitung reduziert werden. Die Kryo-Einheit ist für die Bearbeitung und bildgebenden Verfahren von gefrorenen wasserhaltigen Materialien geeignet.

  6. Kompatibilität mit JEOL TEM
    Die Anwendung des Shuttle-Halters ermöglicht einen nahtlosen Probentransfer für Betrachtungen mit dem TEM nach der Bearbeitung mittels FIB.

Spezifikationen



Elektronen­quelle

JEOL In-lens-Schottky Feld­emissions­quelle

Ionenquelle

Ga Flüssig­metall

Beschleu­nigungs­spannung

0.1 bis 30 kV (REM)
1 bis 30 kV (FIB)

Vergrößerung (REM)

×20 bis ×1.000.000

Auflösung (Bild)

1.2 nm (bei 30kV, REM)
4 nm (bei 30 kV, SIM)

Maximaler Strahl­strom FIB

90 nA (bei 30kV)

Maximaler Strahl­strom REM

200 nA

 
 

Optionen (Auswahl)

  • Interne und/oder externe Manipulatoren

Besonderheit: nachrüstbar für JSM-7100F
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Technische Änderungen und Irrtümer vorbehalten. Alle im Text aufgeführten Markennamen sind eingetragene Warenzeichen der Hersteller.

 

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