• Punktstrahlsystem für Direktschreiben und Maskenherstellung
• Große Schreibfelder bei allen Spannungen
• Schreibfeld 230 mm x 230 mm, Substratgröße bis 300 mm
• Automatischer Einzelkassettenbetrieb (zwei Kassetten ladbar) oder automatisches
Ladesystem für bis zu 12 Kassetten
Spezifikationen
|
Elektronenquelle |
ZrO/W (Schottky)-Emitter |
|
Beschleunigungsspannung |
100/50 kV |
|
Min. Strahldurchmesser |
4 nm (100 kV)/ 7 nm (50 kV) |
|
Substratgröße |
300 mm |
|
Strahlform |
Spot |
|
Ablenkung |
Vector scan |
| Technische Änderungen und Irrtümer vorbehalten. Alle im Text aufgeführten Markennamen sind eingetragene Warenzeichen der Hersteller. |
Zurück zur vorherigen Seite
