• Punktstrahlsystem für feinste Strukturen (Direktschreiben und Maskenherstellung)
• Ideal auch für Forschung und Entwicklung
• Kleinste Toleranzen bei Stitching und Overlay
• Schreibfeld 150 mm x 150 mm, Substratgröße bis 200 mm
• Einzelkassettenbetrieb oder automatisches Ladesystem für 10 Kassetten
Spezifikationen
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Elektronenquelle |
ZrO/W (Schottky)-Emitter |
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Beschleunigungsspannung |
25/50/100 kV |
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Min. Strahldurchmesser |
2 nm |
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Substratgröße |
150/200 mm |
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Strahlform |
Spot |
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Ablenkung |
Vector scan |
| Technische Änderungen und Irrtümer vorbehalten. Alle im Text aufgeführten Markennamen sind eingetragene Warenzeichen der Hersteller. |
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