Elektronenstrahllithographie

Bereits seit fast 40 Jahren werden von JEOL Elektronenstrahl-Lithographiesysteme entwickelt und hergestellt. Das Lieferprogramm umfasst Systeme für Masken- und Direct-Write Lithographie, vom Laborsystem bis hin zum Produktionssystem für Masken der 65 nm Technologie.

Für weniger komplexe Lithographieanwendungen, speziell im Bereich Forschung und Entwicklung Nanotechnologie, bieten wir zusätzlich modulare Systeme auf Basis von Rasterelektronenmikroskopen an (z.B. JSM-7000F BeamDraw).


Modelle:
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