Das JSM-7001Fabrica Focused Ion Beam System ist ein modernes, hochauflösendes, digitales 2-Strahl Focused-Ion-Beam System mit neuentwickelter Ionenoptik, hochauflösender Feldemissionselektronenoptik (In-lens-Schottky) und intuitiver, graphischer Benutzeroberfläche (GUI).
Mit der JSM-7001Fabrica können Dünnschichtschnitte für STEM/TEM- sowie Probenquerschnitte für REM-Untersuchungen aus den unterschiedlichsten Materialien hergestellt werden, die sonst nur schwierig oder unmöglich zu präparieren wären. Abbildung und Materialabtrag können durch die hochauflösende Ionensäule erfolgen, gleichzeitig kann durch die hochauflösende Feldemissionselektronensäule die Abbildung der Probenoberfläche erfolgen.
Die Kombination von FIB-Quelle und FEG-Elektronensäule in einem System erlaubt dabei auch die Anwendung moderner Techniken wie FIB-Tomographie und 3D-EBSD.
Spezifikationen
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Elektronenquelle |
Feldemission mit In-lens-Schottky-Kathode |
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Ionenquelle |
Ga Flüssigmetall |
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Beschleunigungsspannung |
0.5 bis 30 kV (REM) |
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Vergrößerung (REM) |
×10 bis ×1.000.000 |
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Auflösung (Bild) |
1.2 nm (bei 30kV, REM) |
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Maximaler Strahlstrom FIB |
50 nA (bei 30kV) |
Optionale Ausstattung
• Strahlstrommessung
• Metalldepositionseinheit
• Software zur automatischen Probenpräparation
• Interne und/oder externe Manipulatoren
| Technische Änderungen und Irrtümer vorbehalten. Alle im Text aufgeführten Markennamen sind eingetragene Warenzeichen der Hersteller. |
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