Das JIB-4500 Focused Ion Beam System ist ein modernes, hochauflösendes, digitales 2-Strahl Focused-Ion-Beam System mit neuentwickelter Ionenoptik, hochauflösender Elektronenoptik (LaB6-Kathode) und intuitiver, graphischer Benutzeroberfläche (GUI).
Mit der JIB-4500 können Dünnschichtschnitte für STEM/TEM- sowie Probenquerschnitte für REM-Untersuchungen aus den unterschiedlichsten Materialien hergestellt werden, die sonst nur schwierig oder unmöglich zu präparieren wären. Abbildung und Materialabtrag können durch die hochauflösende Ionensäule erfolgen, gleichzeitig kann durch die hochauflösende Elektronensäule die Abbildung der Probenoberfläche erfolgen.
Die Kombination von FIB-Quelle und Elektronensäule in einem System erlaubt dabei auch die Anwendung moderner Techniken wie FIB-Tomographie und 3D-EBSD.
Spezifikationen
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Elektronenquelle |
LaB6-Emitter |
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Ionenquelle |
Ga Flüssigmetall |
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Beschleunigungsspannung |
0.3 bis 30 kV (REM) |
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Vergrößerung (REM) |
×5 bis ×300.000 |
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Auflösung (Bild) |
2.5 nm (bei 30kV, REM) |
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Maximaler Strahlstrom FIB |
30 nA (bei 30kV) |
Optionen (Auswahl)
• Software zur automatischen Probenpräparation
• Interne und/oder externe Manipulatoren
| Technische Änderungen und Irrtümer vorbehalten. Alle im Text aufgeführten Markennamen sind eingetragene Warenzeichen der Hersteller. |
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