JEOL (Germany) GmbH


JEOL (Germany) GmbH

Rasterelektronenmikroskope (REM)

Seit mehr als vier Jahrzehnten sind JEOL Rasterelektronenmikroskope unersetzliche Werkzeuge für Forschung, Entwicklung und industrielle Anwendungen aller Art. Weltweit sind bisher über 8000 JEOL Rasterelektronenmikroskope installiert worden.

Rasterelektronenmikroskope erschließen permanent neue Anwendungsfelder wie zum Beispiel in der Nano-Technologie oder der Biologie. Neue Fabrikationsverfahren im Nanometer-Maßstab sind inzwischen soweit fortgeschritten, dass auch entsprechend neue REM-Technologien entwickelt werden müssen.

JEOL entwickelt und produziert deshalb speziell für den jeweiligen Anwendungsbereich zugeschnittene Geräte. Das Produktspektrum besteht aus verschiedenen Geräteserien, die sich hinsichtlich Auflösung und Ausstattung unterscheiden.


Konventionelle Rasterelektronenmikroskope

Rasterelektronenmikroskope mit Wolfram– oder LaB6-Kathode

Die Geräte dieser Serie sind bei hoher elektronenoptischer Leistung sehr einfach zu bedienen. Verschiedene Probenkammern, Niedervakuumsteuerung (LV-Option) und integrierte Elementanalytik (EDX) gehören zu den wichtigsten Optionen


Niedervakuum Rasterelektronenmikroskope mit Wolfram– oder LaB6-Kathode
(Low Vacuum, LV-REMs)

JEOL Rasterelektronenmikroskope mit Niedervakuumsteuerung entsprechen in der elektronenoptischen Leistung ohne Einschränkung den Geräten für Hochvakuumbetrieb.
Zusätzlich kann jedoch mit variablem Kammervakuum gearbeitet werden und die Abbildung und Röntgenanalytik von feuchten, nichtleitenden und unpräparierten Proben wird auf einfache Weise möglich.

 

Hybrid Rasterelektronenmikroskop


Atmosphärisches Rasterelektronenmikroskop kombiniert mit Lichtmikroskop

Zum ersten Mal wird ein Rasterelektronenmikroskop mit einem vollständigen Lichtmikroskop kombiniert, um gleichzeitig aus einem identischen Probenbereich licht- und elektronenoptische Information zu erhalten und zu kombinieren. Da die Probe hierbei unter atmosphärischem Druck direkt in Flüssigkeiten untersucht werden kann, ergeben sich zahlreiche Anwendungsmöglichkeiten, vor allem in der Zell- und Neurobiologie.

 


Rasterelektronenmikroskope mit Feldemissionsquelle

Feldemissions-Kathoden ermöglichen durch einen deutlich verkleinerten Strahldurchmesser bei erhöhter Strahlstromdichte eine höhere Auflösung als Geräte mit Wolfram oder LaB6-Kathode.
JEOL bietet zwei unterschiedliche Varianten der Feldemissionsquellen an: Quellen nach dem Schottky-Prinzip und kalte Feldemissionsquellen.

Rasterelektronenmikroskope mit thermisch unterstützter Feldemission (Schottky-FEG REM):
Die Schottky-Quelle bietet durch Ihre thermisch unterstützte Feldemission einen hohen, langzeitstabilen Probenstrom.
Anwendungsbereiche sind die schnelle und präzise chemische Analytik (EDX/WDX), kristallographische Analysen (EBSD) und qualitativ hochwertige Elektronenstrahllithographie.
Die größere Energiebreite der geheizten Quelle führt jedoch zu Einschränkungen bei der erreichbaren Bildauflösung.

Rasterelektronenmikroskope mit ungeheizter Feldemissionskathode (CFEG)
Die kalte Feldemissions-Kathode hat gegenüber einer Schottky-Quelle eine geringere Energiebreite und einen höheren Richtstrahlwert (Helligkeit) im Elektronenstrahl und ermöglicht dadurch eine bessere Fokussierbarkeit besonders bei niedrigen Beschleunigungsspannungen.
Resultierend aus dem extrem kleinen Strahldurchmesser besonders bei niedrigen Beschleunigungsspannungen wird höchste Auflösung in Abbildung und Analytik (EDX) garantiert.

Als erster Hersteller weltweit bietet JEOL in der Reihe der CFEG-REMs mit dem JSM-7700F ein Modell mit einer Korrektur der sphärischen und chromatischen Aberration für die Objektivlinse an.

 


Analytische Rasterelektronenmikroskope


Alle JEOL REMs mit Wolfram oder LaB6-Kathode können ab Werk mit einem vollständig in der Bedienungsoberfläche integrierten JEOL EDX-System geliefert werden. Die Modellbezeichnung trägt dann jeweils den Zusatz A für Analytik.

Alternativ kann natürlich auch ein EDX-System eines anderen Herstellers installiert werden.
 

Technische Änderungen und Irrtümer vorbehalten. Alle im Text aufgeführten Markennamen sind eingetragene Warenzeichen der Hersteller.

 



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DMG Jahrestagung

19.-22. September 2010

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