Anwendung und Einsatzbereiche
Das Lieferprogramm von JEOL umfasst Systeme für Masken- und Direct-Write Lithographie, vom Laborsystem bis hin zum Produktionssystem für Maskentechnologie.
Für weniger komplexe Lithographie Anwendungen, speziell im Bereich Forschung und Entwicklung sowie Nanotechnologie, bietet JEOL zusätzlich modulare Systeme auf Basis von Rasterelektronenmikroskopen an.
Lösungen
- Punktstrahlsysteme für äußerst feinste Strukturen
- Kleinste Toleranzen
- Wählbar zwischen Einzelkassenbetrieb oder automatischer Ladesysteme
- Verschiedene Größen von Schreibfeldern
- Gaußian oder Variable-Shape-Beam
Produkte
Detaillösungen
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