Elektronenstrahllithographie
Elektronenstrahllithographie
Elektronenstrahllithographie

Anwendung und Einsatzbereiche

Das Lieferprogramm von JEOL umfasst Systeme für Masken- und Direktschreib-Lithographie, vom Laborsystem bis hin zum Produktionssystem für Maskentechnologie.
Für weniger komplexe Lithographie-Anwendungen, speziell im Bereich Forschung und Entwicklung sowie Nanotechnologie, bietet JEOL zusätzlich modulare Systeme auf Basis von Rasterelektronenmikroskopen an.

Lösungen

  • Punktstrahlsysteme für äußerst feinste Strukturen
  • Kleinste Toleranzen
  • Wählbar zwischen Einzelkassenbetrieb oder automatischer Ladesysteme
  • Verschiedene Größen von Schreibfeldern
  • Gaußian oder Variable-Shape-Beam

Detaillösungen

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